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  P2实验室设计净化工程
  型号:P2实验室设计净化工程
 
 

P2实验室设计净化工程

 


1、洁净车间人流
1-1、人员净化流程图:


 


1-2、食品工业对人员、物料的动线有明确的规定,不可交叉流动,物料流动需设置专用的物料传递口或传递门;人员流动需走专用的人员通道。
2、按照生产工艺和卫生、质量要求,划分洁净级别,具体级别及要求:
医药食品GMP厂房洁净级别及换气次数:

 

 


无尘室空气洁净度等级:


 


洁净车间空气洁净度等级的检验,应以动态条件下测试的尘粒数为依据。洁净厂房空气洁净度的测试,应符合如下表规定:

 

 


每立方米(每升)空气中
≥0.5
微米尘粒数

每立方米(每升)空气中
≥5
微米尘粒数

100

≤35×100(3.5)

1000

≤35×1000(35)

≤250(0.25)

10000

≤35×10000(350)

≤2500(2.5)

100000

≤35×100000(3500)

≤25000(25)


净化工程亦名无尘室或清净室,目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来,由于技术之创新发展,对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切,如超大型积体电路之研究制造,已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目,而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于领先地位。


 洁净车间净化工程一般包括:
1、 洁净生产区
2、 洁净辅助间(包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等)
3、 管理区(包括办公、值班、管理和休息等)
4、 设备区(包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房)


         光学微电子净化工程净化原理
气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风→管道→高效净化风口→吹入房间→带走尘埃细菌
等颗粒 → 回风百叶窗→初效净化 重复以上过程,即可达到净化目的。


         光学微电子净化工程净化参数
换气次数:100000级≥15次;10000级≥20次;1000≥30次。压差:主车间对相邻房间≥5Pa
平均风速:10级、100级0.3-0.5m/s;温度 冬季>16℃;夏季 <26℃;波动±2℃。
温度45-65%;GMP粉剂车间湿度在50%左右为宜;电子车间湿度略高以免产生静电。
噪声≤65dB(A);新风补充量是总送风量的10%-30%;照度300LX。

 

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